Machine de revêtement par trempage à haute température

Présentation du produit

Ce système de revêtement par trempage à haute température est conçu pour les flux de travail de recherche nécessitant une immersion contrôlée, un retrait programmé et une consolidation thermique rapide des matériaux de film en phase liquide. Un substrat est fixé sous le fil de retrait, abaissé dans la boîte de chargement pour l'immersion, puis renvoyé à travers le tube du four pour le chauffage et la solidification du film. Son four intégré prend en charge une température de chauffage nominale de 1000°C, étendant les travaux de revêtement par trempage bien au-delà des équipements conventionnels à basse température.

L'équipement est adapté aux études de croissance et de revêtement de couches minces impliquant des films céramiques, des films cristallins, des films de matériaux de batterie et des nanofilms spécialisés. Les universités, les instituts de recherche et les laboratoires industriels peuvent utiliser l'unité lorsque le mouvement de revêtement répétable et un profil thermique défini sont importants pour le développement expérimental. Il permet un fonctionnement sous azote, argon, autres gaz protecteurs inertes sûrs ou atmosphères oxydantes.

La fiabilité repose sur un contrôle par programme API, un moteur pas à pas de haute précision et une transmission par fil suspendu destinée à réduire les vibrations pendant le retrait. Trois zones de vitesse programmées indépendamment alignent le mouvement mécanique avec les étapes de basse température, de haute température et de refroidissement. La plateforme de processus résultante offre aux chercheurs un moyen pratique de développer des méthodes de formation de film à haute température avec un mouvement contrôlé, un fonctionnement clair et un nettoyage simple.

Caractéristiques principales

• Environnement de chauffage nominal à 1000°C : Le four haute température intégré a une température de chauffage nominale de 1000°C et une température de chauffage maximale de 1100°C. Il permet des études de revêtement et de durcissement pour des matériaux qui ne peuvent pas être traités de manière adéquate dans des systèmes conventionnels limités à des températures inférieures à 200°C.

• Trois zones de retrait réglées indépendamment : Le chemin de mouvement est divisé en zones fixes de basse température, de haute température et de refroidissement. Chaque zone peut se voir attribuer sa propre vitesse de retrait de 1 à 200 mm/min, permettant au profil de déplacement d'être adapté aux exigences d'immersion, de chauffage et de refroidissement.

• Entraînement de précision contrôlé par API : Le contrôle par programme API et un moteur pas à pas de haute précision assurent un mouvement programmé répétable. L'approche de transmission par fil suspendu favorise la réduction des vibrations pendant le déplacement vertical, aidant à maintenir une manipulation stable des substrats légers et des revêtements humides.

• Temps de séjour contrôlé pour le traitement thermique : Le temps de séjour de cuisson est réglable de 1 à 999 s. Cela fournit une période de maintien définie pour la solidification du film dans la séquence de processus thermique sans obliger les opérateurs à chronométrer manuellement chaque cycle.

• Compatibilité avec l'atmosphère : Le système peut fonctionner avec de l'azote, de l'argon et d'autres gaz protecteurs inertes sûrs, ainsi que dans des atmosphères oxydantes. Cette flexibilité prend en charge les études de matériaux qui nécessitent une sélection d'atmosphère pendant le traitement thermique du film.

• Capacité de charge et substrat définis : L'équipement accueille des substrats d'échantillons mesurant L75 mm x l25 mm x P1-4 mm et prend en charge une charge de retrait maximale de <=200 g. Une longueur d'immersion effective de 60 mm établit la plage de trempage utilisable pour la configuration spécifiée.

• Contrôle précis de la température du four : Un contrôleur de température intelligent à plusieurs étages, un thermocouple de type K et une précision de contrôle déclarée de +/-1°C prennent en charge le fonctionnement contrôlé du four. Le taux de chauffage recommandé est de 10°C/min pour une montée en température gérée.

• Interface à écran tactile axée sur l'opérateur : Un écran tactile couleur de 4,3 pouces présente une interface de contrôle simple et claire adaptée au fonctionnement courant en laboratoire. La conception prend en charge le réglage efficace des paramètres pour les utilisateurs développant ou répétant des programmes de revêtement.

• Considération sur le fil haute température : Le fil de retrait standard est destiné à des températures de travail allant jusqu'à 800°C. Le travail entre 800°C et 1000°C nécessite un fil spécialement personnalisé ou un fil fourni par le client, garantissant que le composant mécanique est sélectionné pour la tâche thermique prévue.

Applications

Spécifications techniques

La géométrie de déplacement spécifiée crée une séquence définie à travers la zone basse température, la zone haute température et la zone de refroidissement. Comme les distances de déplacement individuelles sont fixes, les chercheurs peuvent concentrer le développement du processus sur les réglages de vitesse réglables indépendamment, le temps de séjour de cuisson, le programme de température du four et l'atmosphère sélectionnée. Cela fournit une base claire pour enregistrer et répéter les conditions expérimentales lors des essais de revêtement.

Les dimensions du tube et de la chambre du four doivent être examinées par rapport au dispositif de fixation du substrat et à la configuration expérimentale avant l'achat. La taille du substrat, la longueur d'immersion et la limite de charge de retrait indiquées décrivent l'enveloppe de fonctionnement standard. Pour les applications nécessitant un fonctionnement au-dessus de 800°C, la disposition du fil de retrait doit être confirmée lors de la spécification car le fil standard est destiné à être utilisé jusqu'à 800°C.

Pourquoi choisir ce produit

• Capacité haute température dédiée : Ce système combine le retrait par trempage programmé avec un traitement au four à une température nominale de 1000°C, offrant une plateforme ciblée pour la recherche sur la croissance des films nécessitant des conditions thermiques élevées.

• Contrôle de processus mécanique répétable : Le contrôle API, un moteur pas à pas de haute précision, la transmission par fil suspendu, trois étages de vitesse réglables et un temps de séjour configurable assurent un mouvement expérimental cohérent d'un cycle à l'autre.

• Flexibilité de processus sans complexité inutile : Le fonctionnement sous atmosphère inerte ou oxydante, le contrôle de la température à plusieurs étages et un écran tactile de 4,3 pouces permettent aux laboratoires de configurer directement les conditions de base pour leur flux de travail de développement de matériaux.

• Limites d'ingénierie définies pour une spécification fiable : Des limites claires pour les dimensions du substrat, la longueur d'immersion effective, la charge de retrait, les zones de déplacement fixes, les dimensions du four et les exigences en matière de fil haute température aident les équipes d'approvisionnement à évaluer l'adéquation avant l'installation.

• Préparé pour la recherche évolutive sur la formation de films : La conception est destinée à répondre aux futurs besoins en technologie de formation de films à haute température tout en restant adaptée au travail courant dans les laboratoires universitaires, institutionnels et industriels.

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