Machine de revêtement de laboratoire
Machine de revêtement par trempage haute température
Numéro d'article : TB27
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température de chauffage nominale
- 1000°C
- Plage de vitesse de retrait
- Trois étages réglés indépendamment, 1-200 mm/min
- Précision du contrôle de la température
- +/-1°C
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Présentation du produit
Ce système de revêtement par trempage haute température est conçu pour les flux de travail de recherche nécessitant une immersion contrôlée, un retrait programmé et une consolidation thermique rapide des matériaux de film en phase liquide. Un substrat est fixé sous le fil de retrait, abaissé dans la boîte de chargement pour l'immersion, puis renvoyé à travers le tube du four pour le chauffage et la solidification du film. Son four intégré prend en charge une température de chauffage nominale de 1000°C, étendant les travaux de revêtement par trempage bien au-delà des équipements basse température conventionnels.
L'équipement est adapté aux études de croissance et de revêtement de couches minces impliquant des films céramiques, des films cristallins, des films de matériaux de batterie et des nanofilms spécialisés. Les universités, les instituts de recherche et les laboratoires industriels peuvent utiliser l'unité lorsque le mouvement de revêtement répétable et un profil thermique défini sont importants pour le développement expérimental. Il permet un fonctionnement sous azote, argon, autres gaz protecteurs inertes sûrs ou atmosphères oxydantes.
La fiabilité repose sur un contrôle par programme API, un moteur pas à pas de haute précision et une transmission par fil suspendu destinée à réduire les vibrations pendant le retrait. Trois zones de vitesse programmées indépendamment alignent le mouvement mécanique avec les étapes de basse température, haute température et refroidissement. La plateforme de processus résultante offre aux chercheurs un moyen pratique de développer des méthodes de formation de film à haute température avec un mouvement contrôlé, un fonctionnement clair et un nettoyage simple.
Caractéristiques principales
-
Environnement de chauffage nominal à 1000°C : Le four haute température intégré a une température de chauffage nominale de 1000°C et une température de chauffage maximale de 1100°C. Il permet des études de revêtement et de durcissement pour des matériaux qui ne peuvent pas être traités de manière adéquate dans des systèmes conventionnels limités à des températures inférieures à 200°C.
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Trois zones de retrait réglées indépendamment : Le chemin de mouvement est divisé en zones fixes de basse température, haute température et refroidissement. Chaque zone peut se voir attribuer sa propre vitesse de retrait de 1 à 200 mm/min, permettant d'adapter le profil de déplacement aux exigences d'immersion, de chauffage et de refroidissement.
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Entraînement de précision contrôlé par API : Le contrôle par programme API et un moteur pas à pas de haute précision assurent un mouvement programmé répétable. L'approche de transmission par fil suspendu favorise la réduction des vibrations pendant le déplacement vertical, aidant à maintenir une manipulation stable des substrats légers et des revêtements humides.
-
Temps de séjour contrôlé pour le traitement thermique : Le temps de séjour pour la cuisson est réglable de 1 à 999 s. Cela fournit une période de maintien définie pour la solidification du film dans la séquence de processus thermique sans obliger les opérateurs à chronométrer manuellement chaque cycle.
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Compatibilité avec les atmosphères : Le système peut fonctionner avec de l'azote, de l'argon et d'autres gaz protecteurs inertes sûrs, ainsi que dans des atmosphères oxydantes. Cette flexibilité prend en charge les études de matériaux nécessitant une sélection d'atmosphère lors du traitement de film à haute température.
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Capacité de substrat et de charge définie : L'équipement peut accueillir des substrats d'échantillons mesurant L75 mm x l25 mm x P1-4 mm et prend en charge une charge de retrait maximale de <=200 g. Une longueur d'immersion efficace de 60 mm établit la plage de trempage utilisable pour la configuration spécifiée.
-
Contrôle précis de la température du four : Un contrôleur de température intelligent multi-étages, un thermocouple de type K et une précision de contrôle déclarée de +/-1°C prennent en charge le fonctionnement contrôlé du four. Le taux de chauffage recommandé est de 10°C/min pour une montée en température gérée.
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Interface à écran tactile centrée sur l'opérateur : Un écran tactile couleur de 4,3 pouces présente une interface de contrôle simple et claire adaptée aux opérations de laboratoire de routine. La conception prend en charge un réglage efficace des paramètres pour les utilisateurs développant ou répétant des programmes de revêtement.
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Considération sur le fil haute température : Le fil de retrait standard est destiné à des températures de fonctionnement allant jusqu'à 800°C. Le travail entre 800°C et 1000°C nécessite un fil spécialement personnalisé ou un fil fourni par le client, garantissant que le composant mécanique est sélectionné pour la tâche thermique prévue.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Développement de couches minces céramiques | Immerge les substrats céramiques dans un matériau de revêtement en phase liquide, puis les tire à travers un chauffage contrôlé pour la consolidation du film. | Prend en charge les conditions de traitement à haute température pertinentes pour la recherche sur les films céramiques. |
| Recherche sur les films cristallins | Fournit un retrait de substrat programmé et un traitement au four pour les études de couches minces à base de cristaux. | Les zones de déplacement contrôlées indépendamment favorisent une exposition thermique répétable pendant les cycles de revêtement. |
| Études sur les films de matériaux de batterie | Traite les films de matériaux de batterie où le revêtement par trempage contrôlé et la solidification à température élevée font partie du développement en laboratoire. | Combine le mouvement de revêtement et le traitement au four dans un flux de travail défini. |
| Préparation de nanofilms spécialisés | Prend en charge la recherche impliquant des nanofilms spécialisés formés à partir de matériaux de film en phase liquide. | Les réglages de vitesse et de séjour réglables permettent une investigation contrôlée des variables de processus. |
| Expériences de revêtement sous atmosphère inerte | Effectue des études de revêtement et de chauffage avec de l'azote, de l'argon ou d'autres gaz protecteurs inertes sûrs. | Permet aux chercheurs de sélectionner une atmosphère protectrice appropriée à leur processus expérimental. |
| Traitement thermique sous atmosphère oxydante | Prend en charge les flux de travail de revêtement par trempage nécessitant une utilisation dans une atmosphère oxydante. | Fournit une plateforme flexible pour comparer le comportement des films dépendant de l'atmosphère. |
| Recherche sur les matériaux en université et institut | Sert les programmes de laboratoire étudiant les futures technologies de formation de film à haute température. | Le fonctionnement simple sur écran tactile et le nettoyage pratique favorisent une utilisation expérimentale fréquente. |
Spécifications techniques
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Numéro d'article du produit | TB27 |
| Nom du produit | Machine de revêtement par trempage haute température |
| Modèle du produit | TB27 |
| Alimentation électrique d'installation | Monophasé AC220V 50/60Hz, prise standard nationale 10A x2 |
| Exigence de mise à la terre | Une bonne mise à la terre est requise |
| Exigence de protection frontale | Disjoncteur pneumatique 16A requis |
| Température du site d'exploitation | 25°C +/-15°C |
| Humidité du site d'exploitation | 55%Rh +/-10%Rh |
| Tension de fonctionnement de l'unité principale de retrait | DC24V 3.75A ; adaptateur secteur standard AC100-240V |
| Puissance nominale de l'unité principale de retrait | 50W |
| Type | Type haute température contrôlé par programme avec four haute température |
| Moteur d'entraînement | Moteur pas à pas de haute précision |
| Plage de réglage de la vitesse | Fonctionnement en trois étapes ; chaque étape réglée indépendamment ; 1-200 mm/min |
| Temps de séjour pour la cuisson | 1-999 s |
| Déplacement total | Zone basse température + zone haute température + zone refroidissement = 620 mm |
| Déplacement première étape, zone basse température | 236 mm, non réglable |
| Déplacement deuxième étape, zone haute température | 150 mm, non réglable |
| Déplacement troisième étape, zone refroidissement | 234 mm, non réglable |
| Longueur d'immersion efficace | 60 mm |
| Charge de retrait maximale | <=200 g |
| Taille du substrat d'échantillon | L75 mm x l25 mm x P1-4 mm |
| Affichage et contrôle | Écran tactile couleur 4,3 pouces |
| Dimensions hors tout | Largeur 560 mm x profondeur 470 mm x hauteur 1550 mm |
| Poids total | Env. 50 kg, four haute température inclus |
| Tension de fonctionnement du four haute température | Monophasé AC220V 50/60Hz |
| Puissance nominale du four haute température | 1.5KW |
| Température de chauffage maximale | 1100°C |
| Température de chauffage nominale | 1000°C |
| Plage de température de fonctionnement avec fil de retrait standard | RT température ambiante à +800°C |
| Condition de fonctionnement du fil de retrait standard | Convient pour <=800°C |
| Exigence de fil de retrait au-dessus de 800°C | Personnalisation spéciale ou fil fourni par le client requis pour un fonctionnement à 800°C-1000°C |
| Taux de chauffage recommandé | 10°C/min |
| Précision du contrôle de la température | +/-1°C |
| Méthode de contrôle et de réglage de la température | Régulateur de température intelligent, contrôleur de température multi-étages |
| Thermocouple | Type K |
| Dimensions de la chambre du four | Phi80 mm x 330 mm |
| Spécification du tube du four | Phi50 mm diamètre extérieur x phi45 mm diamètre intérieur x 600 mm longueur |
| Entrée de l'adaptateur secteur fourni | AC100-240V 50/60Hz |
| Sortie de l'adaptateur secteur fourni | DC-24V 3.75A |
| Référence de l'alimentation électrique réelle de l'équipement | La spécification de la plaque signalétique arrière du produit prévaut |
| Alimentation optionnelle du four | Monophasé AC110V 50/60Hz personnalisable |
La géométrie de déplacement spécifiée crée une séquence définie à travers la zone basse température, la zone haute température et la zone de refroidissement. Étant donné que les distances de déplacement individuelles sont fixes, les chercheurs peuvent concentrer le développement du processus sur les réglages de vitesse réglables indépendamment, le temps de séjour de cuisson, le programme de température du four et l'atmosphère sélectionnée. Cela fournit une base claire pour enregistrer et répéter les conditions expérimentales lors des essais de revêtement.
Les dimensions du tube et de la chambre du four doivent être examinées par rapport au dispositif de fixation du substrat prévu et à la configuration expérimentale avant l'achat. La taille du substrat, la longueur d'immersion et la limite de charge de retrait indiquées décrivent l'enveloppe de fonctionnement standard. Pour les applications nécessitant un fonctionnement au-dessus de 800°C, la disposition du fil de retrait doit être confirmée lors de la spécification car le fil standard est destiné à être utilisé jusqu'à 800°C.
Pourquoi choisir ce produit
-
Capacité haute température dédiée : Ce système combine le retrait par trempage programmé avec un traitement basé sur un four à 1000°C nominaux, fournissant une plateforme ciblée pour la recherche sur la croissance de films nécessitant des conditions thermiques élevées.
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Contrôle de processus mécanique répétable : Le contrôle API, un moteur pas à pas de haute précision, la transmission par fil suspendu, trois étapes de vitesse réglables et un temps de séjour configurable assurent un mouvement expérimental cohérent d'un cycle à l'autre.
-
Flexibilité de processus sans complexité inutile : Le fonctionnement sous atmosphère inerte ou oxydante, le contrôle de température multi-étages et un écran tactile de 4,3 pouces permettent aux laboratoires de configurer les conditions de base directement pour leur flux de travail de développement de matériaux.
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Limites d'ingénierie définies pour une spécification fiable : Des limites claires pour les dimensions du substrat, la longueur d'immersion efficace, la charge de retrait, les zones de déplacement fixes, les dimensions du four et les exigences en matière de fil haute température aident les équipes d'achat à évaluer l'adéquation avant l'installation.
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Préparé pour la recherche évolutive sur la formation de films : La conception est destinée à répondre aux besoins futurs en technologie de formation de films à haute température tout en restant adaptée au travail de routine dans les laboratoires académiques, institutionnels et industriels.
Contactez-nous pour un devis ou une solution personnalisée, incluant la confirmation des exigences de fil de retrait haute température et de four AC110V pour votre processus.
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