Machine d'enduction de film avec chauffage par le bas

Présentation du produit

Cette machine d'enduction de film avec chauffage par le bas est conçue pour la recherche sur l'enduction à haute température impliquant des films céramiques, des films cristallins, des films de matériaux de batterie et des nano-films spécialisés. Ses fonctions intégrées d'enduction, de fixation par vide et de chauffage par le bas permettent une formation et un séchage contrôlés du film dans un système de laboratoire compact. L'équipement est adapté aux programmes de recherche étudiant les futures technologies de formation de film dans des conditions de température élevée.

Le système combine un mouvement d'enduction programmable avec une plaque en aluminium sous vide et un chauffage réglable. Les chercheurs peuvent définir la vitesse d'enduction, la distance de déplacement, la température de chauffage et le temps de séchage via l'interface à écran tactile. Cela rend l'unité adaptée à la préparation d'électrodes, au développement de films fonctionnels, aux études sur les matériaux avancés et à l'évaluation des procédés à l'échelle du laboratoire.

Une lame micrométrique de précision, une structure rigide en tôle, un contrôle numérique de la température et une pompe à vide sans huile constituent une base pratique pour un travail reproductible. L'équipement est configuré pour les environnements de laboratoire où le contrôle de l'épaisseur d'enduction, le positionnement stable du substrat, les dimensions compactes et la simplicité d'utilisation sont importants pour la productivité quotidienne de la recherche.

Caractéristiques principales

• Chauffage et séchage par le bas : Le système de chauffage à plaque sous vide intégré fonctionne de la température ambiante à 150°C. Un contrôleur de température numérique offre une précision de contrôle de ±1°C pour des conditions de séchage constantes après l'enduction.

• Contrôle de l'épaisseur au niveau micrométrique : La lame réglable a une plage de réglage d'épaisseur de 0 à 5 mm et une précision de contrôle de l'épaisseur d'enduction de 0,01 mm. Cela permet une préparation précise des films de recherche et des revêtements d'électrodes.

• Vitesse d'enduction réglable : La vitesse d'enduction peut être ajustée de 0 à 120 mm par seconde. Les chercheurs peuvent adapter le mouvement d'enduction au comportement de la bouillie, à l'épaisseur de film cible et aux exigences de développement du procédé.

• Contrôle par PLC et écran tactile : Le fonctionnement basé sur PLC et une interface à écran tactile rendent le réglage des paramètres et l'observation pratiques. La course d'enduction de 0 à 300 mm peut également être réglée via l'écran tactile.

• Fixation du substrat par vide : La plaque plate en aluminium sous vide maintient le substrat fermement pendant l'enduction. Le placement et le retrait rapides aident à rationaliser la préparation des échantillons et à réduire les manipulations inutiles.

• Largeur d'enduction standard de 100 mm : La largeur standard du dispositif d'enduction est de 100 mm, offrant un format de travail pratique pour la recherche sur les films et les électrodes en laboratoire tout en conservant un encombrement réduit.

• Conception structurelle compacte : Les dimensions globales de L550 mm × l350 mm × H320 mm aident à économiser un espace de laboratoire précieux. La conception géométrique tridimensionnelle en tôle offre une apparence propre et une structure d'équipement organisée.

• Alimentation en vide intégrée : Une pompe à vide sans huile est incluse avec l'équipement. Cela fournit une source de vide dédiée pour la fixation du substrat sans nécessiter une sélection de pompe supplémentaire pour un fonctionnement standard.

Applications

Spécifications techniques

Configuration de l'équipement

Performance d'enduction et de chauffage

Données sur les substrats compatibles

Procédure d'utilisation

La séquence d'utilisation sépare la fixation du substrat, l'enduction de la bouillie et le séchage chauffant en étapes claires. Cet agencement permet aux chercheurs de préparer un échantillon, d'effectuer le mouvement d'enduction programmé, puis d'appliquer la condition de séchage sélectionnée sans transférer le substrat enduit vers une plate-forme de chauffage séparée. La plaque sous vide reste la surface de travail centrale tout au long du processus, prenant en charge une manipulation stable de la feuille d'aluminium, de la feuille de cuivre et d'autres substrats de recherche dans les plages dimensionnelles indiquées.

La plage de vitesse d'enduction réglable permet le développement de procédés pour différentes formulations de bouillie et objectifs de film. Des vitesses plus faibles peuvent être sélectionnées pour l'évaluation des procédés où un dépôt de matériau contrôlé est requis, tandis que des vitesses plus élevées favorisent une préparation d'échantillon plus rapide lorsque la formulation et la condition d'enduction cible le permettent. Le réglage de la lame et les réglages de la course d'enduction peuvent être configurés à partir de l'écran tactile, permettant à l'opérateur d'établir un point de départ reproductible pour des expériences comparatives.

La fonction de chauffage par le bas est particulièrement pertinente pour les programmes de recherche qui étudient le séchage et la formation de film à des températures élevées. Le contrôleur numérique affiche la température sélectionnée, et la précision de contrôle indiquée de ±1°C favorise des conditions thermiques constantes entre les expériences. Étant donné que le système de chauffage est intégré sous la plaque sous vide, le substrat enduit peut rester fixé pendant l'étape de séchage, réduisant les mouvements supplémentaires pendant la préparation de l'échantillon.

La conception physique est également adaptée aux laboratoires disposant d'un espace de paillasse limité. L'encombrement de L550 mm × l350 mm × H320 mm combine le mécanisme d'enduction, la plaque sous vide, le système de chauffage, les commandes et la pompe à vide incluse dans un format compact. L'enceinte rigide en tôle utilise une conception géométrique tridimensionnelle qui présente une apparence propre et organisée tout en protégeant la structure interne de l'équipement lors d'une utilisation courante en laboratoire.

Pourquoi choisir ce produit

• Flux de travail de recherche intégré : La fixation par vide, l'enduction programmable, le contrôle réglable de la lame et le chauffage par le bas sont combinés dans une seule unité, réduisant les transferts entre les étapes de préparation séparées.

• Contrôle de processus reproductible : La vitesse d'enduction réglable, la précision de contrôle de l'épaisseur d'enduction de 0,01 mm, la course programmable de 0 à 300 mm et la précision de contrôle de la température de ±1°C fournissent des paramètres de processus mesurables pour la recherche comparative.

• Stabilité du substrat : La plaque plate en aluminium sous vide aide à maintenir les feuilles d'électrodes en toute sécurité pendant l'enduction et le séchage, favorisant une manipulation cohérente des échantillons pour les études sur les feuilles d'aluminium et de cuivre.

• Encombrement de laboratoire efficace : Les dimensions globales compactes et la pompe à vide sans huile incluse simplifient l'installation là où l'espace de paillasse et l'intégration de l'équipement sont des considérations importantes.

Pour un devis ou une configuration d'enduction alignée sur vos exigences de recherche sur les films, contactez notre équipe technique pour discuter d'une solution adaptée.

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