Machine de revêtement de film à chauffage par le bas

Présentation du produit

Cette machine de revêtement de film à chauffage par le bas est conçue pour la recherche sur le revêtement à haute température impliquant des films céramiques, des films cristallins, des films de matériaux de batterie et des nano-films spécialisés. Ses fonctions intégrées de revêtement, de fixation par aspiration et de chauffage par le bas permettent une formation et un séchage contrôlés du film dans un système de laboratoire compact. L'équipement est adapté aux programmes de recherche étudiant les futures technologies de formation de film dans des conditions de température élevée.

Le système combine un mouvement de revêtement programmable avec une plaque en aluminium sous vide et un chauffage réglable. Les chercheurs peuvent définir la vitesse de revêtement, la distance de déplacement, la température de chauffage et le temps de séchage via l'interface à écran tactile. Cela rend l'unité adaptée à la préparation d'électrodes, au développement de films fonctionnels, aux études de matériaux avancés et à l'évaluation de processus à l'échelle du laboratoire.

Une lame micrométrique de précision, une structure rigide en tôle, un contrôle numérique de la température et une pompe à vide sans huile constituent une base pratique pour un travail reproductible. L'équipement est configuré pour les environnements de laboratoire où le contrôle de l'épaisseur du revêtement, le positionnement stable du substrat, les dimensions compactes et la simplicité d'utilisation sont importants pour la productivité quotidienne de la recherche.

Caractéristiques principales

• Chauffage et séchage par le bas : Le système de chauffage à plaque sous vide intégré fonctionne de la température ambiante à 150°C. Un contrôleur de température numérique offre une précision de contrôle de ±1°C pour des conditions de séchage constantes après le revêtement.

• Contrôle de l'épaisseur au niveau micrométrique : La lame réglable a une plage de réglage d'épaisseur de 0 à 5 mm et une précision de contrôle de l'épaisseur de revêtement de 0,01 mm. Cela permet une préparation précise des films de recherche et des revêtements d'électrodes.

• Vitesse de revêtement réglable : La vitesse de revêtement peut être ajustée de 0 à 120 mm par seconde. Les chercheurs peuvent adapter le mouvement de revêtement au comportement de la bouillie, à l'épaisseur de film cible et aux exigences de développement du processus.

• Contrôle par PLC et écran tactile : Le fonctionnement basé sur PLC et une interface à écran tactile rendent le réglage et l'observation des paramètres pratiques. La course de revêtement de 0 à 300 mm peut également être définie via l'écran tactile.

• Fixation du substrat par aspiration : La plaque plate en aluminium sous vide maintient le substrat en toute sécurité pendant le revêtement. La mise en place et le retrait rapides aident à rationaliser la préparation des échantillons et à réduire les manipulations inutiles.

• Largeur de revêtement standard de 100 mm : La largeur standard du dispositif de revêtement est de 100 mm, offrant un format de travail pratique pour la recherche sur les films et les électrodes en laboratoire tout en conservant un encombrement réduit.

• Conception structurelle compacte : Les dimensions globales de L550 mm × l350 mm × H320 mm aident à économiser un espace précieux en laboratoire. La conception géométrique tridimensionnelle en tôle offre une apparence propre et une structure d'équipement organisée.

• Alimentation en vide intégrée : Une pompe à vide sans huile est incluse avec l'équipement. Cela fournit une source de vide dédiée pour la fixation du substrat sans nécessiter de sélection de pompe supplémentaire pour un fonctionnement standard.

Applications

Spécifications techniques

Configuration de l'équipement

Performance de revêtement et de chauffage

Données sur les substrats compatibles

Procédure d'utilisation

La séquence d'utilisation sépare la fixation du substrat, le revêtement de la bouillie et le séchage chauffant en étapes claires. Cet agencement permet aux chercheurs de préparer un échantillon, d'effectuer le mouvement de revêtement programmé, puis d'appliquer la condition de séchage sélectionnée sans transférer le substrat revêtu sur une plate-forme de chauffage séparée. La plaque sous vide reste la surface de travail centrale tout au long du processus, prenant en charge une manipulation stable de la feuille d'aluminium, de la feuille de cuivre et d'autres substrats de recherche dans les plages dimensionnelles indiquées.

La plage de vitesse de revêtement réglable permet le développement de processus pour différentes formulations de bouillie et objectifs de film. Des vitesses plus faibles peuvent être sélectionnées pour l'évaluation de processus où un dépôt de matériau contrôlé est requis, tandis que des vitesses plus élevées favorisent une préparation d'échantillon plus rapide lorsque la formulation et la condition de revêtement cible le permettent. Le réglage de la lame et les paramètres de course de revêtement peuvent être configurés depuis l'écran tactile, permettant à l'opérateur d'établir un point de départ reproductible pour des expériences comparatives.

La fonction de chauffage par le bas est particulièrement pertinente pour les programmes de recherche qui étudient le séchage et la formation de film à des températures élevées. Le contrôleur numérique affiche la température sélectionnée, et la précision de contrôle indiquée de ±1°C prend en charge des conditions thermiques constantes entre les expériences. Étant donné que le système de chauffage est intégré sous la plaque sous vide, le substrat revêtu peut rester fixé pendant l'étape de séchage, réduisant les mouvements supplémentaires lors de la préparation de l'échantillon.

La conception physique est également adaptée aux laboratoires disposant d'un espace de travail limité. L'encombrement de L550 mm × l350 mm × H320 mm combine le mécanisme de revêtement, la plaque sous vide, le système de chauffage, les commandes et la pompe à vide incluse dans un format compact. L'enceinte rigide en tôle utilise une conception géométrique tridimensionnelle qui présente une apparence propre et organisée tout en protégeant la structure interne de l'équipement lors d'une utilisation quotidienne en laboratoire.

Pourquoi choisir ce produit

• Flux de travail de recherche intégré : La fixation par aspiration, le revêtement programmable, le contrôle réglable de la lame et le chauffage par le bas sont combinés en une seule unité, réduisant les transferts entre les étapes de préparation séparées.

• Contrôle de processus reproductible : La vitesse de revêtement réglable, la précision de contrôle de l'épaisseur de revêtement de 0,01 mm, la course programmable de 0 à 300 mm et la précision de contrôle de la température de ±1°C fournissent des paramètres de processus mesurables pour la recherche comparative.

• Stabilité du substrat : La plaque plate en aluminium sous vide aide à maintenir les feuilles d'électrodes en toute sécurité pendant le revêtement et le séchage, favorisant une manipulation cohérente des échantillons lors des études sur feuilles d'aluminium et feuilles de cuivre.

• Encombrement de laboratoire efficace : Les dimensions globales compactes et la pompe à vide sans huile incluse simplifient l'installation là où l'espace de travail et l'intégration de l'équipement sont des considérations importantes.

Pour un devis ou une configuration de revêtement alignée sur vos exigences de recherche sur les films, contactez notre équipe technique pour discuter d'une solution adaptée.

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